SEMICONDUCTOR DEVICE
본딩 패드(301)의 주위에 공극(601)을 통하여 배선층(303)이 배치되며, 패시베이션막(401)은 본딩 패드(301)를 형성하는 배선층(303)의 막두께보다 얇고, 공극(601)의 폭은 패시베이션 막두께의 2배 이하로 한, 패시베이션막이 배선층보다 얇고, 본딩 시의 스트레스에 대한 내성이 높은 반도체 장치를 제공한다. A semiconductor device has a bonding pad and a wiring layer formed on an insulating film. The wiring layer is spaced f...
Saved in:
Main Author | |
---|---|
Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
09.01.2017
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Be the first to leave a comment!