METHOD OF MAKING POLISHING LAYER FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD

• Main Authors: BRUGAROLAS BRUFAU TERESA, KOZHUKH JULIA, TONG YUHUA, JACOB GEORGE C, DEGROOT MARTY W, LUGO DIEGO, VENEZIALE DAVID MICHAEL, WANK ANDREW, YEH FENGJI, MILLER JEFFREY B, QIAN BAINIAN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 04.01.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS; GRINDING; MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; PERFORMING OPERATIONS; POLISHING; SEMICONDUCTOR DEVICES; TOOLS FOR GRINDING, BUFFING, OR SHARPENING; TRANSPORTING

According to the present invention, provided is a method to make a polishing layer for a chemical mechanical polishing (CMP) pad, comprising the following steps of: providing a mold having a basis with intaglio of a groove pattern; providing a polycide (P) liquid component; providing an isocide (I) liquid component; providing an axial mixing device; injecting the polycide (P) liquid component, the isocide (I) liquid component, and pressurizing gas into the axial mixing device to form a combination material; discharging the combination material from the axial mixing device to the basis at a speed of 5 to 1,000 m/sec; solidifying the combination material into cake; and inducing a polishing layer for a CMP pad from the cake. According to the present invention, the polishing layer for the CMP pad has a polishing pattern with the groove pattern formed in a polishing surface and the polishing surface is applied to polish a substrate. 하기를 포함하는 화학적 기계적 연마 패드 연마층의 형성 방법이 제공된다: 그루브 패턴의 음각이 있는 기저를 갖는 주형을 제공하는 단계; 폴리 사이드 (P) 액체 성분을 제공하는 단계; 이소 사이드 (I) 액체 성분을 제공하는 단계; 가압 가스를 제공하는 단계; 축방향 혼합 장치를 제공하는 단계; 폴리 사이드 (P) 액체 성분, 이소 사이드 (I) 액체 성분 및 가압 가스를 축방향 혼합 장치에 주입하여 조합물을 형성하는 단계; 조합물을 축방향 혼합 장치로부터 기저를 향해 5 내지 1,000 m/sec의 속도로 배출하는 단계; 조합물을 케이크로 고화시키는 단계; 케이크로부터 화학적 기계적 연마 패드 연마층을 유도하는 단계로서, 상기 화학적 기계적 연마 패드 연마층은 연마 표면 내에 형성된 그루브 패턴이 있는 연마 표면을 갖고; 그리고 상기 연마 표면은 기판을 연마하기 위해 적용되는 것인 단계.