LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

방사선 빔, 예를 들어 EUV 빔을 전향하는 반사기(15)를 포함한 리소그래피 장치가 개시된다. 반사기의 위치는 제어기 및 위치설정 시스템을 이용하여 제어된다. 위치설정 시스템은 비-보상 액추에이터 디바이스(300), 및 비-보상 액추에이터 디바이스의 기생 힘들을 보상하는 보상 액추에이터 디바이스(200)를 포함한다. 위치설정 시스템 및 제어기는 반사기의 더 정확한 위치를 제공하고, 반사기의 변형을 감소시키며, 반사기를 통해 전달되는 힘들의 크기를 감소시킬 수 있다. A lithographic apparatus includes a...

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Main Authors DE JONGH ROBERTUS JOHANNES MARINUS, MERKX LEON LEONARDUS FRANCISCUS, MERRY ROEL JOHANNES ELISABETH
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 16.12.2016
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:방사선 빔, 예를 들어 EUV 빔을 전향하는 반사기(15)를 포함한 리소그래피 장치가 개시된다. 반사기의 위치는 제어기 및 위치설정 시스템을 이용하여 제어된다. 위치설정 시스템은 비-보상 액추에이터 디바이스(300), 및 비-보상 액추에이터 디바이스의 기생 힘들을 보상하는 보상 액추에이터 디바이스(200)를 포함한다. 위치설정 시스템 및 제어기는 반사기의 더 정확한 위치를 제공하고, 반사기의 변형을 감소시키며, 반사기를 통해 전달되는 힘들의 크기를 감소시킬 수 있다. A lithographic apparatus includes a reflector to redirect a radiation beam, e.g. an EUV beam. The position of the reflector is controlled using a controller and a positioning system. The positioning system includes a non-compensating actuator device and a compensating actuator device to compensate for parasitic forces of the non-compensating actuator device. The positioning system and controller can provide a more accurate position of the reflector, reduce deformation of the reflector and reduce the magnitude of forces transmitting through the reflector.
Bibliography:Application Number: KR20167032032