VACUUM PROCESSING SYSTEM AND METHOD FOR MOUNTING A PROCESSING SYSTEM

• Main Authors: SAUER ANDREAS, RIES FLORIAN, HEIN STEFAN, HENRICH JUERGEN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 12.12.2016
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

가요성 기판(260; 560)을 위한 진공 프로세싱 시스템(100)이 제공된다. 프로세싱 시스템은, 가요성 기판을 제공하기 위한 공급 롤, 및 가요성 기판(260; 560)을 저장하기 위한 테이크-업 롤 중 하나를 하우징하도록 적응된 제 1 챔버(110); 가요성 기판을 제공하기 위한 공급 롤, 및 가요성 기판(260; 560)을 저장하기 위한 테이크-업 롤 중 하나를 하우징하도록 적응된 제 2 챔버(120); 상기 제 1 챔버(110)와 상기 제 2 챔버(120; 220; 430; 520) 사이의 유지보수 구역(130); 및 가요성 기판 상에 재료를 증착하기 위한 제 1 프로세스 챔버(140)를 포함하며, 여기에서, 제 2 챔버(140)는 유지보수 구역(130)과 제 1 프로세스 챔버(110) 사이에 제공된다. 유지보수 구역(130)은 제 1 챔버(110)와 제 2 챔버(120) 중 적어도 하나에 대한 유지보수 액세스를 허용한다. A vacuum processing system for a flexible substrate is provided. The processing system includes a first chamber adapted for housing one of a supply roll for providing the flexible substrate and a take-up roll for storing the flexible substrate; a second chamber adapted for housing one of a supply roll for providing the flexible substrate and a take-up roll for storing the flexible substrate; a maintenance zone between the first chamber and the second chamber; and a first process chamber for depositing material on the flexible substrate, wherein the second chamber is provided between the maintenance zone and the first process chamber. The maintenance zone allows for maintenance access to at least one of the first chamber and the second chamber.