UV SOLUBLIZING AGENTS FOR UV FILTERS IN COSMETIC FORMULATIONS
화학식 (1)에 상응하는 화합물 (A)의 용도이며,여기서 R은 C-C알킬을 나타내고; R는 수소; 또는 C-C알킬이고; R은 화학식 (1a) *-(CH)-R의 라디칼이고, R는 1 내지 3개의 질소 및/또는 산소 원자를 함유할 수 있는 4 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 헤테로시클릭 또는 방향족 라디칼이고; n은 0 내지 5의 수이거나; 또는 R및 R은 연결 질소 원자와 함께 1개 이상의 산소 또는 질소 원자를 함유할 수 있는 4 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 헤테로시클릭 라디칼을 형성함; (B1) 벤조페논 유도체, (B2)...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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07.12.2016
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Summary: | 화학식 (1)에 상응하는 화합물 (A)의 용도이며,여기서 R은 C-C알킬을 나타내고; R는 수소; 또는 C-C알킬이고; R은 화학식 (1a) *-(CH)-R의 라디칼이고, R는 1 내지 3개의 질소 및/또는 산소 원자를 함유할 수 있는 4 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 헤테로시클릭 또는 방향족 라디칼이고; n은 0 내지 5의 수이거나; 또는 R및 R은 연결 질소 원자와 함께 1개 이상의 산소 또는 질소 원자를 함유할 수 있는 4 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 헤테로시클릭 라디칼을 형성함; (B1) 벤조페논 유도체, (B2) 히드록시페닐 트리아진 유도체; 및 (B3) 트리아닐리노-s-트리아진 유도체 로부터 선택된 유기 UV 필터 (B)를 위한 가용화제로서의 용도가 개시되어 있다.
Disclosed is the use of the compounds (A) corresponding to formula (1) wherein R1 represents C6-C24alkyl; R2 is hydrogen; or d-C4alkyl; R3 is a radical of formula (1 a) *-(CH2)n1-R4 R4 is a heterocyclic or aromatic radical comprising 4 to 6 carbon atoms which can contain from 1 to 3 nitrogen and/or oxygen atoms; n-1 is a number from 0 to 5; or R2 and R3 together with the linking nitrogen atom form a heterocyclic radical comprising 4 to 6 carbon atoms which can contain one or more oxygen or nitrogen atoms; as solubilizing agent for organic UV filters (B) selected from (B1 ) benzophenone derivatives, (B2) hydroxyphenyl triazine derivatives; and (B3) trianilino-s-triazine derivatives. |
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Bibliography: | Application Number: KR20167027547 |