REFERENCE LAYER FOR PERPENDICULAR MAGNETIC ANISOTROPY MAGNETIC TUNNEL JUNCTION
장치는 pMTJ(perpendicular magnetic anisotropy magnetic tunnel junction) 디바이스를 포함한다. pMTJ 디바이스는 저장 층 및 기준 층을 포함한다. 기준 층은 페리자성 효과를 생성하도록 구성된 부분을 포함한다. 그 부분은 제 1 층, 제 2 층, 및 제 3 층을 포함한다. 제 2 층은 pMTJ 디바이스의 동작 동안 제 1 층과 제 3 층을 반강자성으로(AF; antiferromagnetically) 커플링하도록 구성된다. An apparatus includes a perpendicu...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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16.11.2016
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Summary: | 장치는 pMTJ(perpendicular magnetic anisotropy magnetic tunnel junction) 디바이스를 포함한다. pMTJ 디바이스는 저장 층 및 기준 층을 포함한다. 기준 층은 페리자성 효과를 생성하도록 구성된 부분을 포함한다. 그 부분은 제 1 층, 제 2 층, 및 제 3 층을 포함한다. 제 2 층은 pMTJ 디바이스의 동작 동안 제 1 층과 제 3 층을 반강자성으로(AF; antiferromagnetically) 커플링하도록 구성된다.
An apparatus includes a perpendicular magnetic anisotropy magnetic tunnel junction (pMTJ) device. The pMTJ device includes a storage layer and a reference layer. The reference layer includes a portion configured to produce a ferrimagnetic effect. The portion includes a first layer, a second layer, and a third layer. The second layer is configured to antiferromagnetically (AF) couple the first layer and the third layer during operation of the pMTJ device. |
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Bibliography: | Application Number: KR20167023919 |