PROCESS FOR PRODUCING A GRAPHENE FILM

• Main Authors: TYURNINA ANASTASIA, DIJON JEAN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 11.11.2016
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; COMPOUNDS THEREOF; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; INORGANIC CHEMISTRY; METALLURGY; NON-METALLIC ELEMENTS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

다음의 연속적인 단계들: - 가스 유입구 (4) 를 갖는, 반응 챔버 (3) 에 기판 (1) 및 고체 탄소 소스 (2) 를 배치하는 단계, - 가스 흐름 하에서, 상기 소스를 통해 기류를 통과시키는 것에 의해, 상기 고체 탄소 소스 (2) 를 가열하는 단계로서, 상기 가스는 탄화수소가 없으며, 상기 기판 (1) 상에서 상기 고체 탄소 소스 (2) 의 적어도 일부를 그래핀 필름으로 변환하도록 하는, 상기 고체 탄소 소스 (2) 를 가열하는 단계 를 포함하는, 그래핀 필름을 제조하기 위한 프로세스. Fabrication method of a graphene film including the following successive steps: placing the substrate and a solid carbon source in a reaction chamber, provided with a gas inlet; and heating the solid carbon source, by flow of a current in said source, under a gas flow, the gas being devoid of hydrocarbon, so as to convert at least a part of the solid carbon source into a graphene film on the substrate.