DEVICE EXPOSURE APPARATUS AND MANUFACTURAING METHOD

• Main Authors: YAMADA AKIO, IWASHITA RYUMA, SUGATANI SHINJI, KUROKAWA MASAKI, TAKIZAWA MASAHIRO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 04.11.2016
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a multi-beam forming device which can process a fine line pattern stably by complementary lithography. The device for forming and biasing beams comprises: an aperture layer having a first opening through which the beams inputted from a first side of the device are formed and passed; and a deflection layer for passing and deflecting the beams passed through the aperture layer. The deflection layer comprises: a first electrode section having a first electrode facing a beam passing space in the biasing layer corresponding to the first opening; and a second electrode portion having a second electrode opposite to the first electrode with the beam passing space interposed therebetween at an elongated portion which elongates toward the beam passing space independently from the adjacent layer in the deflection layer and at the end portion. The present invention also relates to an exposure apparatus using the device. [과제] 컴플리멘터리·리소그래피로, 미세한 라인 패턴을 안정적으로 가공할 수 있는 멀티빔 형성 소자를 실현한다. [해결수단] 빔을 성형하여 편향시키는 소자로서, 소자의 제1 면 측으로부터 입사되는 빔을 성형하여 통과시키는 제1 개공(開孔)을 갖는 어퍼처층과, 어퍼처층을 통과한 빔을 통과시켜 편향시키는 편향층을 구비하고, 편향층은, 제1 개공에 대응하는 편향층 내의 빔 통과 공간에 상대하는 제1 전극을 갖는 제1 전극부와, 편향층 내에 있어서 인접층과는 독립적으로 빔 통과 공간을 향해 연신하는 연신부 및 단부에 있어서 빔 통과 공간을 사이에 두고 제1 전극에 대향하는 제2 전극을 갖는 제2 전극부를 갖는 소자 및 이러한 소자를 적용한 노광 장치를 제공한다.