OPTIMIZATION OF TARGET ARRANGEMENT AND ASSOCIATED TARGET

• Main Authors: SMILDE HENDRIK JAN HIDDE, VAN BUEL HENRICUS WILHELMUS MARIA, VAN HAREN RICHARD JOHANNES FRANCISCUS, LIU XING LAN, BELTMAN JOHANNES MARCUS MARIA
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 28.10.2016
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

타겟 배열을 계획하는 방법 및 연계된 타겟 및 레티클이 개시된다. 타겟은 복수의 격자들을 포함하고, 각각의 타겟은 복수의 서브구조체들을 포함한다. 상기 방법은 타겟 영역을 정의하는 단계; 격자들을 형성하기 위해 타겟 영역 내에 서브구조체들을 위치시키는 단계; 및 격자들의 둘레에 어시스트 피처들을 위치시키는 단계를 포함하고, 어시스트 피처들은 격자들의 둘레에서 측정된 세기 피크들을 감소시키도록 구성된다. 상기 방법은 메트롤로지 공정을 이용하여 타겟의 검사에 의해 얻어지는 결과적인 이미지를 모델링하는 단계; 및 타겟 배열이 메트롤로지...