EUV EUV OPTICAL ELEMENT HAVING BLISTER-RESISTANT MULTILAYER CAP

다층 미러는 다층 구조체를 갖는 캡을 포함하며, 다층 구조체가 상단층 및 일련의 이중층(bilayer)을 가지며, 각각의 이중층이 흡수체층 및 스페이서층을 가지며, 상단층, 흡수체층, 및 스페이서층을 위한 재료는 블리스터링에 저항하도록 선택된다. A multilayer mirror having a cap with a multilayer structure including a top layer and a series of bilayers each having an absorber layer and a spacer layer, wher...

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Main Author BOWERING NORBERT R
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 11.10.2016
Subjects
GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
IRRADIATION DEVICES
NUCLEAR ENGINEERING
NUCLEAR PHYSICS
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
PHYSICS
TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOTOTHERWISE PROVIDED FOR
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Summary:다층 미러는 다층 구조체를 갖는 캡을 포함하며, 다층 구조체가 상단층 및 일련의 이중층(bilayer)을 가지며, 각각의 이중층이 흡수체층 및 스페이서층을 가지며, 상단층, 흡수체층, 및 스페이서층을 위한 재료는 블리스터링에 저항하도록 선택된다. A multilayer mirror having a cap with a multilayer structure including a top layer and a series of bilayers each having an absorber layer and a spacer layer, where the materials for the top layer, absorber layers, and spacer layers are chosen to resist blistering.
Bibliography:Application Number: KR20167024229