SKIN COSMETIC COMPOSITION ANTIBACTERIAL AGENT FOR SKIN COSMETIC AND METHOD FOR ENHANCING ANTIBACTERIAL EFFECT OF DIOL COMPOUND

본 발명은, 파라벤류를 사용하지 않아도, 항균성을 갖고, 인체에 대하여 안전한 피부용 화장료 조성물 및 피부용 화장료용 항균제를 제공하는 것을 목적으로 한다. 상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 헥실글리세릴에테르 및 시클로헥실글리세릴에테르로부터 선택되는 1종 또는 2종인 (A) 성분, 1,2-프로판디올 및 1,3-프로판디올로부터 선택되는 1종 또는 2종인 (B) 성분, 및 시트르산, 락트산, 히드록시에틸에틸렌 디아민삼아세트산, 히드록시에틸이미노이아세트산, 디히드록시에틸글리신, 글루콘산, 피트산, 펜테트산, 에티드론산, 타르타...

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Main Authors TSUSHIMA YASUHIRO, SUZUKI HIROSHI
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 06.10.2016
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Summary:본 발명은, 파라벤류를 사용하지 않아도, 항균성을 갖고, 인체에 대하여 안전한 피부용 화장료 조성물 및 피부용 화장료용 항균제를 제공하는 것을 목적으로 한다. 상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 헥실글리세릴에테르 및 시클로헥실글리세릴에테르로부터 선택되는 1종 또는 2종인 (A) 성분, 1,2-프로판디올 및 1,3-프로판디올로부터 선택되는 1종 또는 2종인 (B) 성분, 및 시트르산, 락트산, 히드록시에틸에틸렌 디아민삼아세트산, 히드록시에틸이미노이아세트산, 디히드록시에틸글리신, 글루콘산, 피트산, 펜테트산, 에티드론산, 타르타르산 및 이들의 염, 및 글루코노락톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 (C) 성분을 함유하는 피부용 화장료 조성물, 및 상기 (A) 성분, 상기 (B) 성분 및 상기 (C) 성분을 포함하는 피부용 화장료용 항균제를 제공한다. 또한, 본 발명은 상기 (A) 성분의 디올 화합물이 갖는 항균효과의 증강방법도 제공한다. An objective of the invention is to provide a skin cosmetic composition and an antibacterial agent for a skin cosmetic which exhibit antibacterial effects even without using parabens and are safe to the human body. To attain this objective, the invention provides a skin cosmetic composition comprising: a component (A) which is either one or both of hexyl glyceryl ether and cyclohexyl glyceryl ether, a component (B) which is either one or both of 1,2-propanediol and 1,3-propanediol, and a component (C) which is one or more of group consisting of citric acid, lactic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, dihydroxyethylglycine, gluconic acid, phytic acid, pentetic acid, etidronic acid, tartaric acid, and salts thereof, and gluconolactone, and also provides an antibacterial agent for a skin cosmetic which includes the components (A), (B), and (C). The invention also provides a method for enhancing the antibacterial effect of the diol compound of the component (A).
Bibliography:Application Number: KR20167023594