Heater block and substrate processing apparatus

• Main Authors: LEE, SUNG YONG, HAN, YONG WOO, JEONG, PIL SEONG, JI, SANG HYUN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 06.10.2016
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a heater block having a plurality of heating lamps mounted on one surface facing an object to be treated such as a substrate. The present invention relates to the heater block and a substrate treating apparatus having the same. The heating lamp includes: a first lamp radiating ultraviolet rays (UV) onto the object to be treated; and a second lamp radiating infrared rays (IR) onto the object to be treated, wherein a relative number ratio of the first lamp to the second lamp can be different in each of a plurality of areas on the one surface. The heater block and the substrate treating apparatus compensate the temperature of the edge area of the substrate to increase uniformity of the temperature of the substrate. 본 발명은 처리물 예컨대 기판과 마주보는 일면에 복수개의 가열 램프가 장착되는 히터 블록으로서, 상기 가열 램프는 상기 처리물에 자외선(UV)을 조사하는 제1 램프 및 상기 처리물에 적외선(IR)을 조사하는 제2 램프를 포함하고, 상기 제1 램프 및 제2 램프의 상대적인 개수의 비는 상기 일면 상의 복수의 영역 각각에서 서로 다른 히터 블록 및 이를 구비하는 기판 처리 장치로서, 기판의 가장자리 영역의 온도를 보상하여 기판 온도의 균일성을 향상시킬 수 있는 히터 블록 및 기판 처리 장치가 제시된다.