Tzc - LOW EXPANSION SILICA-TITANIA ARTICLES WITH A Tzc GRADIENT BY COMPOSITIONAL VARIATION

극자외선 리소그래피 (EUVL)에 사용하기 위한 유리 제품은 제공된다. 상기 유리 제품은 상기 유리 제품을 통한 조성 구배를 갖는 실리카-티타니아 유리를 포함하고, 상기 조성 구배는 하기 함수에 의해 정의된다: [TiO] = (c + f(x,y,z)), 및 [SiO] = (100 - {c + f(x,y,z)} - δ(x,y,z)) 여기서, [TiO]는 wt.%로 티타니아의 농도이고, [SiO]는 wt.%로 실리카의 농도이며, c는 미리결정된 제로 크로스오버 온도 (T)에 대한 wt.%로 티타니아의 농도이고, f(x,y,z)는 c에...

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Main Authors MAXON JOHN EDWARD, ANNAMALAI SEZHIAN, DURAN CARLOS ALBERTO, ANGELL WILLIAM R IV
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 05.10.2016
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Summary:극자외선 리소그래피 (EUVL)에 사용하기 위한 유리 제품은 제공된다. 상기 유리 제품은 상기 유리 제품을 통한 조성 구배를 갖는 실리카-티타니아 유리를 포함하고, 상기 조성 구배는 하기 함수에 의해 정의된다: [TiO] = (c + f(x,y,z)), 및 [SiO] = (100 - {c + f(x,y,z)} - δ(x,y,z)) 여기서, [TiO]는 wt.%로 티타니아의 농도이고, [SiO]는 wt.%로 실리카의 농도이며, c는 미리결정된 제로 크로스오버 온도 (T)에 대한 wt.%로 티타니아의 농도이고, f(x,y,z)는 c에 대하여 좌표 (x,y,z)에 집중된 체적 요소의 평균 조성에서 차이를 한정하는 3-차원 공간에서 함수이며, 및 δ(x,y,z)는 상기 좌표 (x,y,z)에 집중된 체적 요소의 모든 다른 성분의 합을 한정하는 3-차원 공간에서 함수이다. A glass article for use in Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) is provided. The glass article includes a silica-titania glass having a compositional gradient through the glass article, the compositional gradient being defined by the functions: [TiO2]=(c+f(x,y,z)), and [SiO2]=(100−{c+f(x,y,z)}−δ(x,y,z)) wherein [TiO2] is the concentration of titania in wt. %, [SiO2] is the concentration of silica in wt. %, c is the titania concentration in wt. % for a predetermined zero crossover temperature (Tzc), f(x, y, z) is a function in three-dimensional space that defines the difference in average composition of a volume element centered at the coordinates (x, y, z) with respect to c, and δ(x, y, z) is a function in three-dimensional space that defines the sum of all other components of a volume element centered at the coordinates (x, y, z).
Bibliography:Application Number: KR20167024111