MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE
물체면(object plane)에 배열된 패턴(pattern)을 이미지면(image plane)에 결상하기 위한 마이크로리소그래피 투영 대물 렌즈가 그러한 투영 대물 렌즈 내의 오류광 억제와 관련하여 기술된다.
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
07.09.2016
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Summary: | 물체면(object plane)에 배열된 패턴(pattern)을 이미지면(image plane)에 결상하기 위한 마이크로리소그래피 투영 대물 렌즈가 그러한 투영 대물 렌즈 내의 오류광 억제와 관련하여 기술된다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20167023425 |