ADJUSTING SUBSTRATE TEMPERATURE TO IMPROVE CD UNIFORMITY

다수의 독립적으로 제어가능한 히터 존들을 구비한 기판 지지 어셈블리를 갖는 플라즈마 식각 시스템. 플라즈마 식각 시스템은, 임계 디바이스 파라미터들의 프리 식각 및/또는 포스트 식각 비균일성이 보상될 수 있도록 미리결정된 위치들의 식각 온도를 제어하도록 구성된다. A plasma etching system having a substrate support assembly with multiple independently controllable heater zones. The plasma etching system is configur...

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Main Authors SINGH HARMEET, VAHEDI VAHID, GAFF KEITH WILLIAM, COMENDANT KEITH
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 03.08.2016
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:다수의 독립적으로 제어가능한 히터 존들을 구비한 기판 지지 어셈블리를 갖는 플라즈마 식각 시스템. 플라즈마 식각 시스템은, 임계 디바이스 파라미터들의 프리 식각 및/또는 포스트 식각 비균일성이 보상될 수 있도록 미리결정된 위치들의 식각 온도를 제어하도록 구성된다. A plasma etching system having a substrate support assembly with multiple independently controllable heater zones. The plasma etching system is configured to control etching temperature of predetermined locations so that pre-etch and/or post-etch non-uniformity of critical device parameters can be compensated for.
Bibliography:Application Number: KR20167020421