METHODS AND APPARATUS FOR CALCULATING ELECTROMAGNETIC SCATTERING PROPERTIES OF A STRUCTURE AND FOR ESTIMATION OF GEOMETRICAL AND MATERIAL PARAMETERS THEREOF

• Main Authors: PISARENCO MAXIM, SETIJA IRWAN DANI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 13.07.2016
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

산란측정에서, 규격화 파라미터를 포함하는 메리트 함수가 측정된 타겟의 산란 특성에 대한 값을 찾기 위한 반복 프로세스에서 사용된다. 규격화 파라미터에 대한 최적의 값이 각각의 측정 타겟에 대하여 그리고 반복적 프로세스의 각각의 반복 과정에서 획득된다. 불일치 원리, 카이-제곱 방법, 및 메리트 함수를 포함하는, 불일치 원리 및 카이-제곱 방법의 신규한 변경예를 포함하는 다양한 방법들이 규격화 파라미터에 대한 값을 찾기 위하여 사용될 수 있다. In scatterometry, a merit function including a reg...