METHODS AND APPARATUS FOR CALCULATING ELECTROMAGNETIC SCATTERING PROPERTIES OF A STRUCTURE AND FOR ESTIMATION OF GEOMETRICAL AND MATERIAL PARAMETERS THEREOF

산란측정에서, 규격화 파라미터를 포함하는 메리트 함수가 측정된 타겟의 산란 특성에 대한 값을 찾기 위한 반복 프로세스에서 사용된다. 규격화 파라미터에 대한 최적의 값이 각각의 측정 타겟에 대하여 그리고 반복적 프로세스의 각각의 반복 과정에서 획득된다. 불일치 원리, 카이-제곱 방법, 및 메리트 함수를 포함하는, 불일치 원리 및 카이-제곱 방법의 신규한 변경예를 포함하는 다양한 방법들이 규격화 파라미터에 대한 값을 찾기 위하여 사용될 수 있다. In scatterometry, a merit function including a reg...

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Main Authors PISARENCO MAXIM, SETIJA IRWAN DANI
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 13.07.2016
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:산란측정에서, 규격화 파라미터를 포함하는 메리트 함수가 측정된 타겟의 산란 특성에 대한 값을 찾기 위한 반복 프로세스에서 사용된다. 규격화 파라미터에 대한 최적의 값이 각각의 측정 타겟에 대하여 그리고 반복적 프로세스의 각각의 반복 과정에서 획득된다. 불일치 원리, 카이-제곱 방법, 및 메리트 함수를 포함하는, 불일치 원리 및 카이-제곱 방법의 신규한 변경예를 포함하는 다양한 방법들이 규격화 파라미터에 대한 값을 찾기 위하여 사용될 수 있다. In scatterometry, a merit function including a regularization parameter is used in an iterative process to find values for the scattering properties of the measured target. An optimal value for the regularization parameter is obtained for each measurement target and in each iteration of the iterative process. Various methods can be used to find the value for the regularization parameter, including the Discrepancy Principle, the chi-squared method and novel modifications of the Discrepancy Principle and the chi-squared method including a merit function.
Bibliography:Application Number: KR20167015529