SOURCE GAS SUPPLY APPARATUS AND FILM FORMING APPARATUS

• Main Author: MOROI MASAYUKI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 10.05.2016
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

Provided are a source gas supply device and a film forming device including the same capable of supplying carrier gas to a source container (3) including WCI_6; supplying source gas including an evaporated source to a consumption area of a source; and preventing the trouble generation of a valve by controlling re-solidification of a solid source. In a carrier gas supply path (41) supplying the carrier gas to the source container, and a source gas supply path (42) supplying the source gas from the source container, part of the source container (3) including valves (V2, V4) is configured to be heated by a path heating unit. The source container is configured to be heated by a container heating unit. The container heating unit (12) is controlled to be off when the heating is suspended, and then the path heating unit (11) is controlled to be off. When the heating by the container heating unit (12) is suspended, a source returning member (70) whose speed is faster than a cooling speed of the source gas of the source container (3) is installed inside the source container (3). WCl을 수용한 원료 용기(3)에 캐리어 가스를 공급하고, 기화한 원료를 포함하는 원료 가스를 원료의 소비 구역에 공급함에 있어서, 고체 원료의 재 고화를 억제해서 밸브의 트러블의 발생 우려가 없는 원료 가스 공급 장치 및 이 원료 가스 공급 장치를 구비한 성막 장치를 제공한다. 캐리어 가스를 원료 용기에 공급하는 캐리어 가스 공급로(41)와, 원료 가스를 원료 용기로부터 공급하기 위한 원료 가스 공급로(42)에 있어서, 밸브(V2, V4)를 포함하는 원료 용기(3)측의 부분을 유로용 가열부에 의해 가열하도록 구성한다. 또한 원료 용기를 용기용 가열부에 의해 가열하도록 구성한다. 그리고 가열을 정지할 때 용기용 가열부(12)를 선행해서 오프로 하고, 그 후 유로용 가열부(11)를 오프로 하도록 제어한다. 또는 용기용 가열부(12)에 의한 가열을 정지했을 때, 그 강온 속도가 원료 용기(3) 내의 원료 가스의 강온 속도보다도 빠른 원료 회수용 부재(70)를 원료 용기(3) 내에 설치한다.