SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS WITH FACTORY INTERFACE ENVIRONMENTAL CONTROLS

• Main Authors: LEE HELDER T, PATIL SANGRAM, BAUMGARTEN DOUGLAS, MAJUMDAR AYAN, MENK JOHN C, RAJARAM SANJAY, KOSHTI SUSHANT S, HRUZEK DEAN C
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 20.04.2016
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

팩토리 인터페이스의 환경 제어를 포함하는 전자 디바이스 프로세싱 시스템들이 설명된다. 하나의 전자 디바이스 프로세싱 시스템은, 팩토리 인터페이스 챔버를 갖는 팩토리 인터페이스, 팩토리 인터페이스에 커플링된 로드 락 장치, 팩토리 인터페이스에 커플링된 하나 또는 그 초과의 기판 캐리어들, 및 팩토리 인터페이스에 커플링된 환경 제어 시스템을 가지며, 환경 제어 시스템은, 팩토리 인터페이스 챔버 내의, 상대 습도, 온도, 산소의 양, 또는 비활성 가스의 양 중 하나를 모니터링하거나 또는 제어하도록 동작한다. 다른 양상에서, 팩토리 인터페이스 챔버 내의 캐리어 퍼지 챔버의 퍼징이 제공된다. 기판들을 프로세싱하기 위한 방법들이 설명되고, 다수의 다른 양상들이 설명된다. An electronic device processing system includes a factory interface (FI), substrate carrier(s), a humidity sensor, an oxygen sensor, and an environmental control system coupled to the FI. A processor of the environmental control system is to cause inert gas to be provided to an FI chamber and inert gas exhausted from the FI chamber to be circulated back into the FI chamber. The processor is also to identify conditions to be satisfied before opening a door of the substrate carriers. The processor is to control the humidity level based on detection by the humidity sensor or the oxygen level based on detection by the oxygen sensor. If the one or more conditions are satisfied, the processor is to open the carrier door to enable passing of substrates between the FI chamber and the substrate carriers.