COMPOSITION FOR FORMING A COATING TYPE BPSG FILM, SUBSTRATE, AND METHOD FOR FORMING PATTERNS

• Main Authors: OGIHARA TSUTOMU, KIKUCHI RIE, TANEDA YOSHINORI, TACHIBANA SEIICHIRO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 14.04.2016
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

Provided is a composition for forming a spreading-type borophosphosilicate glass film, which exhibits excellent adhesiveness when forming micropatterns. The composition includes: at least one sort of structures having a silicic acid skeleton represented by general formula 1; at least one sort of structures having a phosphoric acid skeleton represented by general formula 2; at least one sort of structures having a boric acid skeleton represented by general formula 3; and at least one sort of structures having a silicon skeleton represented by general formula 4. The composition of the present invention also includes a bond between units represented by the general formula 4. [과제] 미세패턴에 있어서의 밀착성이 우수하고, 반도체기판이나 패터닝 공정에서 필요한 도포형 유기막이나 탄소를 주성분으로 하는 CVD막에 대하여 데미지를 주지 않는 박리액으로 용이하게 웨트 에칭가능하고, 또한, 드라이에칭 후에도 박리성을 유지할 수 있으며, 나아가 도포 프로세스로 형성함으로써 파티클의 발생을 억제할 수 있는 BPSG막을 형성하기 위한 도포형 BPSG막 형성용 조성물을 제공한다. [해결수단] 하기 일반식(1)로 표시되는 규산을 골격으로 하는 구조 중 1종류 이상, 하기 일반식(2)로 표시되는 인산을 골격으로 하는 구조 중 1종류 이상, 하기 일반식(3)으로 표시되는 붕산을 골격으로 하는 구조 중 1종류 이상, 및 하기 일반식(4)로 표시되는 규소를 골격으로 하는 구조 중 1종류 이상을 가지며, 또한, 하기 일반식(4)로 표시되는 단위끼리의 연결을 포함하는 도포형 BPSG막 형성용 조성물. [화학식 1][화학식 2][화학식 3][화학식 4]