PROCESS FOR PRODUCTION OF ISOXAZOLINE-SUBSTITUTED BENZOIC ACID AMIDE COMPOUND
일반식 (3)[식 중 X는 할로겐 원자, C~C할로 알킬 등을 나타내고, Y는 할로겐 원자, C~C알킬 등을 나타내며, R은 C~C할로 알킬 등을 나타내고, L은 염소원자, 브롬원자, -C(O)OH, -C(O)J 등을 나타내고, J는 할로겐 원자를 나타내고, m은 0~5의 정수(整數)를 나타내며, n은 0~4의 정수를 나타낸다.]에서 나타내어지는 이속사졸린 치환 벤젠화합물과 일반식 (2)[식 중 R및 R는 각각 독립하여 수소원자, C~C알킬 등을 나타내고, R는 C~C알킬, C~C할로 알킬 등을 나타내고, R는 수소원자, C~C알킬...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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11.04.2016
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Summary: | 일반식 (3)[식 중 X는 할로겐 원자, C~C할로 알킬 등을 나타내고, Y는 할로겐 원자, C~C알킬 등을 나타내며, R은 C~C할로 알킬 등을 나타내고, L은 염소원자, 브롬원자, -C(O)OH, -C(O)J 등을 나타내고, J는 할로겐 원자를 나타내고, m은 0~5의 정수(整數)를 나타내며, n은 0~4의 정수를 나타낸다.]에서 나타내어지는 이속사졸린 치환 벤젠화합물과 일반식 (2)[식 중 R및 R는 각각 독립하여 수소원자, C~C알킬 등을 나타내고, R는 C~C알킬, C~C할로 알킬 등을 나타내고, R는 수소원자, C~C알킬 등을 나타낸다.]에서 나타내어지는 2-아미노 아세트산 아미드 화합물 또는 그 염을 반응시키는 것에 의한, 일반식 (1)[식 중, X, Y, R, R, R, R, R, m 및 n은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]에서 나타내어지는 이속사졸린 치환 안식향산 아미드 화합물의 제조방법, 결정형 및 그 제조방법. |
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Bibliography: | Application Number: KR20167007900 |