DETERMINATION AND APPLICATION OF NON-MONOTONIC DOSE SENSITIVITY

• Main Author: FINDERS JOZEF MARIA
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 25.03.2016
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

패터닝 디바이스로부터 기판 상으로 패턴을 전사하도록 구성되는 리소그래피 장치에서의 리소그래피 방법이 개시되며, 상기 방법은: 복수의 도즈 값들에서 패턴의 적어도 일부분의 도즈 감도를 결정하는 단계를 포함하고, 도즈 감도는 도즈의 단조적으로 증가하거나 단조적으로 감소하는 함수가 아니다. 프로세서, 메모리 및 저장 디바이스를 포함하는 컴퓨터 제품이 개시되며, 저장 디바이스는 적어도 복수의 도즈 값들에서 리소그래피 패턴의 적어도 일부분의 도즈 감도의 값들, 또는 도즈 감도를 설명하는 함수를 저장하고, 도즈 감도는 도즈의 단조적으로 증가하거나 단조적으로 감소하는 함수가 아니다. A method of lithography in a lithographic apparatus configured to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate, the method including: determining a dose sensitivity of at least part of the pattern at a plurality of values of a dose, wherein the dose sensitivity is not a monotonically increasing or monotonically decreasing function of the dose. A computer product including a processor, a memory and a storage device, wherein the storage device at least stores values of, or a function describing, a dose sensitivity of at least part of a lithographic pattern at a plurality of values of dose, wherein the dose sensitivity is not a monotonically increasing or monotonically decreasing function of the dose.