FILM-FORMING COMPOSITION, FILM FORMED THEREBY, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT USING SAME

본 발명의 막 형성용 조성물은, 일반식 (1)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 불소 수지와, 불소계 용제를 포함한다. [화학식 43](R은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다. R는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼15의 직쇄상, 탄소수 3∼15의 분기쇄상 또는 탄소수 3∼15의 환상의 함불소 탄화수소기이고, 탄화수소기 중의 수소 원자가 불소 원자로 치환되어 있어도 되고, 반복 단위 중에 적어도 1개의 불소 원자를 포함한다.) 당해 조성물은, 유기 반도체막 상에 막의 형성이 가능하고, 포토리...

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Main Authors TERUI YOSHIHARU, KOMORIYA HARUHIKO, HARA YUKARI, KOBAYASHI FUMITO, HARA IKUNARI
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 23.03.2016
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