METHOD FOR FABRICATING OXIDATION FILM ON METALLIC MATERIALS

• Main Authors: LEE, YOU RI, PAK, SANG JIN, SONG, YONG WON
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 07.03.2016
• Subjects: APPARATUS THEREFOR; CHEMISTRY; ELECTROFORMING; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; METALLURGY; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS

The present invention relates to a method for forming an oxidation thin film on a metal capable of controlling properties of the thin film with low power by using bipolar pulse currents and, more specifically, to a method for forming an oxidation thin film on a metal by forming a micro arc oxidation coating layer on the surface of the metal by dipping the metal into an electrolyte and applying the electric currents to the metal while allowing the metal to function as an anodic pole and allowing an opposite electrode to function as a cathodic pole. The anodic pulse currents are applied between the anodic pole and the cathodic pole. The currents performs a series of process successively performing an anodic pulse step; a first pause step; a cathodic pulse step; and a second pause step at least once. The method for forming the oxidation thin film on the metal is capable of remarkably reducing resistance generated by ions and particles accelerated when the polarity of pulse currents is changed by including the pause step that the anodic pulse current is not applied. Eventually, an effect of improving the efficiency of the micro arc oxidation process is obtained. 본 발명은 바이폴라 펄스 전류를 이용하여 저전력으로 피막의 특성을 조절할 수 있는 금속의 산화피막 형성방법에 관한 것으로, 금속을 전해액에 침지하고, 상기 금속을 애노드극으로하고 대향전극을 캐소드극으로 하여 통전함으로써 상기 금속의 표면에 마이크로 아크 산화 코팅을 수행하여 산화피막을 형성하는 방법으로서, 상기 애노드극과 상기 캐소드극의 사이에는 양극성 펄스 전류가 인가되며, 상기 전류는 애노드 펄스 단계, 1차 휴지단계, 캐소드 펄스 단계 및 2차 휴지단계를 순차적으로 적어도 1회 이상 수행하는 것을 특징으로 한다. 본 발명은, 양극성 펄스 전류에 휴지단계를 포함함으로써, 펄스의 극성이 바뀌는 순간에 가속된 이온 및 입자에 의해 발생하는 저항을 크게 줄일 수 있으며, 결국 마이크로 아크 산화 공정의 효율이 높아지는 효과가 있다.