PROCESS FOR FORMING AN ELECTROACTIVE LAYER

• Main Authors: FENNIMORE ADAM, TRUONG NUGENT, ZIEBARTH JONATHAN M, CHESTERFIELD REID JOHN, MERLO JEFFREY A
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 26.02.2016
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

실질적으로 평탄한 프로파일을 갖는 전기활성 재료의 층을 형성하기 위한 방법이 제공된다. 본 방법은 적어도 하나의 활성 영역을 갖는 공작물을 제공하는 단계; 활성 영역 내에서 공작물 상으로 전기활성 재료를 포함하는 액체 조성물을 침착시켜서, 습윤 층을 형성하는 단계; 1 내지 100분의 제1 기간 동안, -25 내지 80℃의 범위 내의 제어된 온도에서 그리고 1.3 × 10내지 133.3 ㎪(10내지 1,000 Torr)의 범위 내의 진공 하에서 공작물 상의 습윤 층을 처리하여, 부분 건조 층을 형성하는 단계; 및 부분 건조 층을 1 내지 50분의 제2 기간 동안 100℃ 초과의 온도로 가열하여, 건조 층을 형성하는 단계를 포함한다. There is provided a process for forming a layer of electroactive material having a substantially flat profile. The process includes the steps of providing a workpiece having at least one active area; depositing a liquid composition including the electroactive material onto the workpiece in the active area, to form a wet layer; treating the wet layer on the workpiece at a controlled temperature in the range of 25 to 80° C. and under a vacuum in the range of 106 to 1,000 Torr, for a first period of 1-100 minutes, to form a partially dried layer; and heating the partially dried layer to a temperature above 100° C. for a second period of 1-50 minutes to form a dried layer.