PLASMA GENERATION FOR THIN FILM DEPOSITION ON FLEXIBLE SUBSTRATES

유연한 기판(102) 상에 박막을 증착하는 시스템(100)은 절연 지역(110)에 의해 이격된 복수의 처리 지역(104, 106, 108)과, 기판이 진행하는 통로에 근접한 곳에서 플라즈마 영역(132)을 생성하는 플라즈마 생성기(130)와, 시스템이 사용 중일 때 기판이 플라즈마 영역을 지나 운송되고 이에 노출되도록 처리 지역 사이에서 앞뒤로 기판을 안내하는 기판 운송 메커니즘(128)을 포함한다....

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Main Author DICKEY ERIC R
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 12.01.2016
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CHEMICAL SURFACE TREATMENT
CHEMISTRY
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL
COATING METALLIC MATERIAL
DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRICITY
INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL
METALLURGY
SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Summary:유연한 기판(102) 상에 박막을 증착하는 시스템(100)은 절연 지역(110)에 의해 이격된 복수의 처리 지역(104, 106, 108)과, 기판이 진행하는 통로에 근접한 곳에서 플라즈마 영역(132)을 생성하는 플라즈마 생성기(130)와, 시스템이 사용 중일 때 기판이 플라즈마 영역을 지나 운송되고 이에 노출되도록 처리 지역 사이에서 앞뒤로 기판을 안내하는 기판 운송 메커니즘(128)을 포함한다.
Bibliography:Application Number: KR20157031851