ION IMPLANTER

• Main Authors: WAN ZHIMIN, PLATOW WILHELM P, SAADATMAND KOUROSH
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 06.01.2016
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

Provided are an ion source and an ion implanter including at least one optical constituent element. The ion source is formed to provide an ion beam. The optical constituent elements are arranged on a transmission path of the ion beam to change the ion beam into a non-parallel ion beam. Different portions of the non-parallel ion beam are synchronized with different area of a work piece and the optical constituent elements are implanted. The optical constituent elements may be a number of coils arranged on two separated bars or magnetic constituent elements such as a magnet. The optical constituent elements may be a number of electrodes arranged on two separated bars. The optical constituent elements, different from each other, are formed to disperse and/or converge the ion beam. Therefore, the ion beam is changed into the non-parallel ion beam with parallelism less than parallelism of the ion beam. 이온 소스 및 적어도 하나의 광학적 구성요소를 포함하는 이온 주입기가 제공된다. 상기 이온 소스는 이온 빔을 제공하도록 구성되는 한편, 상기 광학적 구성요소는 상기 이온 빔을 비-평행 이온 빔으로 변경하기 위해 상기 이온 빔의 전송 경로 상에 배치되어, 작업편의 서로 다른 영역들에 상기 비-평행 이온 빔의 서로 다른 부분들과 동기화되어 주입된다. 상기 광학적 구성요소는 2개의 분리된 막대들 상에 배치되는 많은 코일들 또는 4중 자석과 같은, 자기적 구성요소일 수 있다. 상기 광학적 구성요소는 2개의 분리된 막대들 상에 배치되는 많은 전극들일 수 있다. 서로 다른 광학적 구성요소는 상기 이온 빔을 각각 발산 및/또는 수렴하도록 구성되어, 상기 이온 빔이 상기 이온 빔보다 덜 평행성을 가지는 비-평행 이온 빔으로 변경하게 된다.