ANALYSIS METHOD FOR NANOINDENTATION SYSTEM, ADJUSTING METHOD, NANOINDENTATION SYSTEM AND RECORDING MEDIUM USING THEREOF
The present invention relates to a method to analyze a nanoidentation system using a nanohardness reference sample and a method to adjust a nanoidentation system using the same. The method to analyze a nanoidentation system comprises: a step of drawing a reference identation load curve as an identat...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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31.12.2015
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Summary: | The present invention relates to a method to analyze a nanoidentation system using a nanohardness reference sample and a method to adjust a nanoidentation system using the same. The method to analyze a nanoidentation system comprises: a step of drawing a reference identation load curve as an identation load curve calculated from information on reference properties of a reference sample; a second step of drawing a target identation load curve acquired by an actual nanoidentation system using the reference sample; and a third step of calculating a first difference between the target identation load curve and an identation depth in accordance to the identation load of the reference identation load curve. The first and second steps are performed at the same time, in order, or in reverse order. The calculated first difference corresponds to a system rigidity of the actual nanoidentation system. According to the present invention, an influence on all kinds of test factors is clearly analyzed and adjusted through one test.
본 발명은 나노경도 기준시편을 이용한 나노압입시스템 분석방법, 및 이를 이용한 나노압입시스템 교정방법에 관한 것으로, 이를 위하여 기준시편의 기준 물성정보로부터 계산되는 압입하중 인가곡선인 기준 압입하중 인가곡선을 도시하는 제1단계; 기준시편을 이용한 실제의 나노압입시스템에 의해 얻어지는 대상 압입하중 인가곡선을 도시하는 제2단계; 및 대상 압입하중 인가곡선과 기준 압입하중 인가곡선의 압입하중에 따른 압입깊이의 차이인 제1차이를 계산하는 제3단계;를 포함하고, 제1단계 및 제2단계는 동시에, 순서대로 또는 역순으로 수행될 수 있으며, 계산된 제1차이는 실제의 나노압입시스템의 시스템 강성에 대응되는 것을 특징으로 하는 나노경도 기준시편을 이용한 나노압입시스템의 분석방법이 제공될 수 있다. 이에 따르면 각종 시험인자의 영향을 하나의 시험으로 명확히 분석하고, 교정할 수 있는 효과가 있다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20140075945 |