ALUMINIUM DOPANT COMPOSITIONS, SUB-ATMOSPHERIC STORAGE AND DELIVERY PACKAGE CONTAINING SUCH COMPOSITIONS, AND METHOD OF STORING AND DELIVERING SUCH COMPOSITIONS

알루미늄 도펀트 조성물을 사용하기 위한 방법 및 시스템이 제공된다. 알루미늄 도펀트 조성물의 조성이 선택되고, 화학식 AlRL에 의해 나타내어지며, 여기서 R은 메틸 기이고, L은 Cl, F, I 및 Br이고, x는 1 또는 2이고, 여기서 x = 1인 경우에 y = 1 또는 2이고, x = 2인 경우에 y = 2-4이고, x = 1 또는 2에 대해 z = 3x - y이다. 조성물은 충분한 증기압 및 최소 탄소 함량을 갖고, 그에 의해 Al 이온 주입 동안 이온 주입 공정으로의 전달의 용이성 및 탄소 침착의 실질적인 감소를 가능하게...

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Main Authors BROWN LLOYD A, SINHA ASHWINI K
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 11.12.2015
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:알루미늄 도펀트 조성물을 사용하기 위한 방법 및 시스템이 제공된다. 알루미늄 도펀트 조성물의 조성이 선택되고, 화학식 AlRL에 의해 나타내어지며, 여기서 R은 메틸 기이고, L은 Cl, F, I 및 Br이고, x는 1 또는 2이고, 여기서 x = 1인 경우에 y = 1 또는 2이고, x = 2인 경우에 y = 2-4이고, x = 1 또는 2에 대해 z = 3x - y이다. 조성물은 충분한 증기압 및 최소 탄소 함량을 갖고, 그에 의해 Al 이온 주입 동안 이온 주입 공정으로의 전달의 용이성 및 탄소 침착의 실질적인 감소를 가능하게 한다. 소스 물질은 바람직하게는 대기압 미만의 저장 및 전달 장치로부터 저장 및 전달되어 Al 이온 주입 공정 동안 안전성 및 신뢰성을 개선한다. A novel method and system for using aluminum dopant compositions is provided. A composition of the aluminum dopant compositions is selected with sufficient vapor pressure and minimal carbon content, thereby enabling ease of delivery to an ion implant process and substantial reduction of carbon deposition during Al ion implantation. The source material is preferably stored and delivered from a sub-atmospheric storage and delivery device to enhance safety and reliability during the Al ion implantation process.
Bibliography:Application Number: KR20157033561