CLEANING OF CVD PRODUCTION SPACES

본 발명의 요지는 복수의 CVD 반응기를 함유하는 다결정질 실리콘의 제조를 위한 생산 공간을 세척하는 방법으로서, 세척이 2주 이내에 1회 이상 일어나는 방법이다. 세척을 수행하기 위하여, 수성 세척액이 사용되고, CVD 반응기의 외부 케이싱, 파이프라인 및 생산 공간의 플로어가 세척되는 것이다. Contamination of surfaces of polysilicon rods removed from a Siemens reactor in a polysilicon production facility is reduced by clean...

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Main Authors POPP FRIEDRICH, HERTLEIN HARALD
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 09.12.2015
Subjects
CHEMISTRY
CLEANING
CLEANING IN GENERAL
COMPOUNDS THEREOF
INORGANIC CHEMISTRY
METALLURGY
NON-METALLIC ELEMENTS
PERFORMING OPERATIONS
PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
TRANSPORTING
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Summary:본 발명의 요지는 복수의 CVD 반응기를 함유하는 다결정질 실리콘의 제조를 위한 생산 공간을 세척하는 방법으로서, 세척이 2주 이내에 1회 이상 일어나는 방법이다. 세척을 수행하기 위하여, 수성 세척액이 사용되고, CVD 반응기의 외부 케이싱, 파이프라인 및 생산 공간의 플로어가 세척되는 것이다. Contamination of surfaces of polysilicon rods removed from a Siemens reactor in a polysilicon production facility is reduced by cleaning the production facility at least every other week with a cleaning liquid containing water, optionally also containing neutral surfactants.
Bibliography:Application Number: KR20157031355