TEMPERATURE MEASUREMENT IN MULTI-ZONE HEATER

본 개시물의 실시예들은, 기판 서포트의 다양한 위치들에서 하나 또는 그 초과의 프로세싱 파라미터들, 이를테면 온도를 측정하기 위한 장치 및 방법들을 제공한다. 본 개시물의 일 실시예는, 프로세싱 챔버에서 하나 도는 그 초과의 파라미터들을 측정하기 위한 센서 칼럼을 제공한다. 센서 칼럼은 측정될 챔버 구성요소와 접촉하는 팁, 제 1 단부와 제 2 단부로부터 연장하는 내부 체적을 갖는 보호 튜브로서, 팁은 보호 튜브의 제 1 단부에 부착되며 제 1 단부에서 보호 튜브를 밀봉하는, 보호 튜브; 및 팁 근처에 배치되는 센서를 포함한다. 상...

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Main Authors ROCHA ALVAREZ JUAN CARLOS, DU BOIS DALE R, BALUJA SANJEEV, BANSAL AMIT KUMAR, YANG BOZHI, ZHOU JIANHUA
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 24.11.2015
Subjects
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Summary:본 개시물의 실시예들은, 기판 서포트의 다양한 위치들에서 하나 또는 그 초과의 프로세싱 파라미터들, 이를테면 온도를 측정하기 위한 장치 및 방법들을 제공한다. 본 개시물의 일 실시예는, 프로세싱 챔버에서 하나 도는 그 초과의 파라미터들을 측정하기 위한 센서 칼럼을 제공한다. 센서 칼럼은 측정될 챔버 구성요소와 접촉하는 팁, 제 1 단부와 제 2 단부로부터 연장하는 내부 체적을 갖는 보호 튜브로서, 팁은 보호 튜브의 제 1 단부에 부착되며 제 1 단부에서 보호 튜브를 밀봉하는, 보호 튜브; 및 팁 근처에 배치되는 센서를 포함한다. 상기 보호 튜브의 내부 체적이 상기 센서의 커넥터들을 수납하며, 상기 팁은 작동중 상기 프로세싱 챔버의 개구를 통해 상기 프로세싱 챔버에 위치 설정된다. Embodiments of the present disclosure generally provide apparatus and methods for monitoring one or more process parameters, such as temperature of substrate support, at various locations. One embodiment of the present disclosure provides a sensor column for measuring one or more parameters in a processing chamber. The sensor column includes a tip for contacting a chamber component being measured, a protective tube having an inner volume extending from a first end and second end, wherein the tip is attached to the first end of the protective tube and seals the protective tube at the first end, and a sensor disposed near the tip. The inner volume of the protective tube houses connectors of the sensor, and the tip is positioned in the processing chamber through an opening of the processing chamber during operation.
Bibliography:Application Number: KR20157028903