PROCESSING SYSTEMS AND METHODS FOR HALIDE SCAVENGING

• Main Authors: LUBOMIRSKY DMITRY, VENKATARAMAN SHANKAR, HUANG JIAYIN, HAMANA HIROSHI, CHEN ZHIJUN, HSU CHING MEI, CHEN XINGLONG, WANG ANCHUAN, LI ZIHUI, INGLE NITIN K, THAKUR RANDHIR
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 23.11.2015
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

수분 오염(moisture contamination)에 의해 야기되는 프로세스 결함들을 제어하기 위한, 시스템들, 챔버들, 및 프로세스들이 제공된다. 시스템들은, 챔버들이, 진공 또는 제어된 환경에서 다수의 동작들을 수행하게 하기 위한 구성들을 제공할 수 있다. 챔버들은, 챔버 디자인들과 조합하여 부가적인 프로세싱 능력들을 제공하기 위한 구성들을 포함할 수 있다. 방법들은, 시스템 툴들에 의해 수행되는 에칭 프로세스들의 결과로서 야기될 수 있는 에이징(aging) 결함들의 제한, 방지, 및 보정을 제공할 수 있다. Systems, chambers, and processes are provided for controlling process defects caused by moisture contamination. The systems may provide configurations for chambers to perform multiple operations in a vacuum or controlled environment. The chambers may include configurations to provide additional processing capabilities in combination chamber designs. The methods may provide for the limiting, prevention, and correction of aging defects that may be caused as a result of etching processes performed by system tools.