OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL SYSTEM FOR EUV LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR TREATING SUCH AN OPTICAL ELEMENT

• Main Authors: BEKMAN HERMANUS HENDRICUS PETRUS THEODORUS, EHM DIRK HEINRICH, KUZNETSOV ALEXEY, HUIJBREGTSE JEROEN, STORM ARNOLDUS JAN, AMENT IRENE, GRABER TINA, SMEETS DRIES, TE SLIGTE EDWIN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 23.11.2015
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTROGRAPHY; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES; HOLOGRAPHY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; IRRADIATION DEVICES; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; NUCLEAR ENGINEERING; NUCLEAR PHYSICS; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOTOTHERWISE PROVIDED FOR

본 발명은 광학 요소(50)에 관한 것으로, 광학 요소는 기판(52), 기판(52)에 적용된 EUV 방사선 반사 다층 시스템(51) 및 다층 시스템(51)에 적용되면서 적어도 제1 및 제2 층(57, 58)을 갖는 보호층 시스템(60)을 포함하고, 제1 층(57)은 제2 층(58)보다 다층 시스템(51)에 더 근접하게 배열된다. 제1 층(57)은 수소를 위한 확산 배리어로서 기능하고, 제2 층(58)보다 낮은 수소에 대한 용해도를 가지며, 제2 층은 수소를 흡수하도록 기능한다. 본 발명은 또한 적어도 하나의 이런 광학 요소(50)를 포함하는 EUV 리소그래피를 위한 광학 시스템, 다층 시스템(51)의 적어도 하나의 층(53, 54) 및/또는 보호층 시스템(60)의 적어도 하나의 층(57, 58, 59)에 통합된 수소를 제거하기 위해 광학 요소(50)를 처리하기 위한 방법에도 관련한다.