OPTICAL ASSEMBLY FOR INCREASING THE ETENDUE

광학 시스템이, 투영 리소그래피용 조명 시스템(5)용의 0.1 mm² 미만의 오리지널 에탕뒤를 갖는 광원(2)을 갖는다. 광학 조립체(13)가, 광원(2)의 사용 방출(12)의 에탕뒤를 동시에 증가시키기 위한 역할을 한다. 광학 조립체(13)가, 적어도 10배만큼 에탕뒤의 증가를 초래하도록, 구현된다. 충돌되는 광학 조립체(13)의 부품이 광원(2)에 관하여 변위되도록, 광학 조립체(13)의 광학 부품 상의 광원(2)의 방출(12)의 충돌 영역이 시간적으로 변화된다. An optical system has a light source...

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Main Authors SANGER INGO, HENNERKES CHRISTOPH
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 20.11.2015
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:광학 시스템이, 투영 리소그래피용 조명 시스템(5)용의 0.1 mm² 미만의 오리지널 에탕뒤를 갖는 광원(2)을 갖는다. 광학 조립체(13)가, 광원(2)의 사용 방출(12)의 에탕뒤를 동시에 증가시키기 위한 역할을 한다. 광학 조립체(13)가, 적어도 10배만큼 에탕뒤의 증가를 초래하도록, 구현된다. 충돌되는 광학 조립체(13)의 부품이 광원(2)에 관하여 변위되도록, 광학 조립체(13)의 광학 부품 상의 광원(2)의 방출(12)의 충돌 영역이 시간적으로 변화된다. An optical system has a light source having an original etendue of less than 0.1 mm2 for an illumination system for projection lithography. An optical assembly serves for simultaneously increasing the etendue of a used emission of the light source. The optical assembly is embodied such that an increase in the etendue by at least a factor of 10 results. A component of the optical assembly that is impinged on is displaced relative to the light source such that an impingement region of the emission of the light source on the optical component of the optical assembly varies temporally.
Bibliography:Application Number: KR20157027303