METHODS FOR PURIFYING 5-(HALOMETHYL)FURFURAL

본 개시물은 공정 중에 5-(클로로메틸)푸르푸랄의 분해 또는 변성을 감소시키거나 최소화하는 작동 조건에서 5-(클로로메틸)푸르푸랄을 포함하는 5-(할로메틸)푸르푸랄 조성물을 정제하는 방법을 제공한다. 방법은 특정 용제, 작동 조건, 및/또는 기술 (예를 들어, 가스 스트리핑)을 이용할 수도 있다. 공정으로부터 생성된 기체 5-(할로메틸)푸르푸랄은 액체 또는 고체 형태의 5-(할로메틸)푸르푸랄을 수득하기 위해 응결되거나 침착될 수 있다. 고체 5-(할로메틸)푸르푸랄은 무정형 또는 결정형일 수도 있다. The present disclo...

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Main Authors SMITH RYAN L, WOOD ALEX B, MASUNO MAKOTO N, BISSELL JOHN, HIRSCH WEIL DIMITRI A, BROWNING SHAWN M
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 13.11.2015
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Summary:본 개시물은 공정 중에 5-(클로로메틸)푸르푸랄의 분해 또는 변성을 감소시키거나 최소화하는 작동 조건에서 5-(클로로메틸)푸르푸랄을 포함하는 5-(할로메틸)푸르푸랄 조성물을 정제하는 방법을 제공한다. 방법은 특정 용제, 작동 조건, 및/또는 기술 (예를 들어, 가스 스트리핑)을 이용할 수도 있다. 공정으로부터 생성된 기체 5-(할로메틸)푸르푸랄은 액체 또는 고체 형태의 5-(할로메틸)푸르푸랄을 수득하기 위해 응결되거나 침착될 수 있다. 고체 5-(할로메틸)푸르푸랄은 무정형 또는 결정형일 수도 있다. The present disclosure provides methods for purifying a 5-(halomethyl)furfural composition, including 5-(chloromethyl)furfural, at operating conditions that decrease or minimize the decomposition or degradation of 5-(chloromethyl)furfural during the process. The methods may employ certain solvents, operating conditions, and/or techniques (e.g., gas stripping). The gaseous 5-(halomethyl)furfural produced from the process can be condensed or deposited to yield 5-(halomethyl)furfural in liquid or solid form. The solid 5-(halomethyl)furfural may be amorphous or crystalline.
Bibliography:Application Number: KR20157026155