SYSTEM AND METHOD FOR ADJUSTING SEED LASER PULSE WIDTH TO CONTROL EUV OUTPUT ENERGY

레이저 생성 플라즈마(LPP) 극 자외(EUV) 광 시스템에서 시드 레이저를 제어하기 위한 방법 및 장치가 개시되고, 일 실시예로서, 시드 레이저는 사전 펄스 및 메인 펄스를 발생시키며 이러한 메인 펄스는 증폭되어 타겟 재료를 조사한다. 메인 펄스의 폭은, EUV 출력 에너지를 필요한 레벨로 유지하도록, 사전 펄스의 폭을 조정하지 않고도 예를 들어 EOM 또는 기타 다른 광학 스위치를 이용함으로써 조정될 수 있다. 메인 펄스 폭이 필요한 범위보다 길거나 짧은 경우에만, 메인 펄스 폭을 필요한 범위 내로 유지하도록 레이저 증폭기의 듀...

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Main Authors RIGGS DANIEL J, GRAHAM MATTHEW R, RAFAC ROBERT J, CROUCH JAMES H
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 23.10.2015
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
X-RAY TECHNIQUE
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Summary:레이저 생성 플라즈마(LPP) 극 자외(EUV) 광 시스템에서 시드 레이저를 제어하기 위한 방법 및 장치가 개시되고, 일 실시예로서, 시드 레이저는 사전 펄스 및 메인 펄스를 발생시키며 이러한 메인 펄스는 증폭되어 타겟 재료를 조사한다. 메인 펄스의 폭은, EUV 출력 에너지를 필요한 레벨로 유지하도록, 사전 펄스의 폭을 조정하지 않고도 예를 들어 EOM 또는 기타 다른 광학 스위치를 이용함으로써 조정될 수 있다. 메인 펄스 폭이 필요한 범위보다 길거나 짧은 경우에만, 메인 펄스 폭을 필요한 범위 내로 유지하도록 레이저 증폭기의 듀티 사이클이 조정된다. 펌프 RF 듀티 사이클을 조정하기 전에 이런 식으로 메인 펄스 폭을 조정하게 되면 듀티 사이클의 조정이 줄어들 수 있고, 따라서 사전 펄스에 대한 조정도 줄어들게 된다.
Bibliography:Application Number: KR20157024551