EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE

• Main Authors: IZUMI NOZOMU, NAGANO KOUHEI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 13.10.2015
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

An exposure apparatus includes: a first detector which detects a substrate side mark through a disk side mark and a projection optical system; a second detector which is arranged a lot more than the first detector and detects the substrate side mark without passing through the projection optical system; a reference plate having a reference mark; and a control unit which obtains the first detection result of the multiple reference marks by the second detector, obtains the first information about the first distance between a plurality of the second detectors based on the first detection result, obtains the second detection result of the same substrate side mark by the first detector and second detector, obtains the second information about the second distance between the first detector and second detector based on the second detection result, and controls an alignment of the disk and the substrate based on the first information and second information. 노광 장치는, 기판측 마크를 원판측 마크와 투영 광학계를 통해서 검출하는 제1 검출기와, 제1 검출기보다 많은 수가 배치되고, 기판측 마크를 투영 광학계를 통하지 않고 검출하는 제2 검출기와, 기준 마크를 갖는 기준 플레이트와, 제2 검출기에 의한 복수의 기준 마크의 제1 검출 결과를 취득하고, 제1 검출 결과에 기초하여 복수의 제2 검출기 사이의 제1 거리에 관한 제1 정보를 취득하고, 제1 검출기 및 제2 검출기에 의한 동일한 기판측 마크의 제2 검출 결과를 취득하고, 제2 검출 결과에 기초하여 제1 검출기와 제2 검출기 사이의 제2 거리에 관한 제2 정보를 취득하고, 제1 정보와 제2 정보에 기초하여 원판과 기판의 얼라인먼트를 제어하도록 구성되는 제어 유닛을 포함한다.