MANUFACTURING METHOD OF AN ARRAY SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY

• Main Authors: JUNG, KYUNG SUB, LEE, EUN WON
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 13.10.2015
• Subjects: ADHESIVES; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMISTRY; DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; DYES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FREQUENCY-CHANGING; MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE; METALLURGY; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS; NATURAL RESINS; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICS; PAINTS; PHYSICS; POLISHES; SEMICONDUCTOR DEVICES; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF

The present invention relates to a method for manufacturing an array substrate for a liquid crystal display apparatus, which comprises the following steps: a) forming a gate electrode on a substrate: b) forming a gate insulation layer on the substrate including the gate electrode; c) forming a metal oxide film (active layer) on the gate insulation layer; and d) forming a molybdenum metal film (source/drain electrode) on the metal oxide film. The step d) includes a step of forming the molybdenum metal film on the metal oxide film, and selectively etching the molybdenum metal film by using an etching composition. The etching composition includes, with respect to the total weight of the composition, A) hydrogen peroxide (H2O2), B) one or more selected from organic acid and salt thereof, C) a cyclic amine compound, D) one or more selected from sulfonic acid, organic peroxyacid, a phosphonic acid derivative, and salt thereof, E) 0.5 to 5 wt% of one or more selected from a group consisting of nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and perchloric acid, and F) residual water. 본 발명은 a)기판 상에 게이트 전극을 형성하는 단계; b)상기 게이트 전극을 포함한 기판 상에 게이트 절연층을 형성하는 단계; c)상기 게이트 절연층 상에 금속 산화물막(액티브층)을 형성하는 단계; 및 d)상기 금속 산화물막 상에 몰리브덴 금속막(소스/드레인 전극)을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 d)단계는 상기 금속 산화물막 상에 몰리브덴 금속막을 형성하고, 상기 몰리브덴 금속막을 식각액 조성물을 사용하여 선택적으로 식각하는 단계를 포함하며, 상기 식각액 조성물은, 조성물 총 중량에 대하여, A) 과산화수소(HO), B) 유기산 및 이들의 염으로부터 선택되는 1종 이상, C) 고리형 아민 화합물, D) 술폰산, 유기과산, 및 포스폰산 유도체 및 그의 염으로부터 선택되는 1종 이상, E) 질산, 황산, 인산 및 과염소산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상 0.5 내지 5 중량%; 및 F) 잔량의 물을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.