IMPROVED METROLOGY THROUGH USE OF FEED FORWARD FEED SIDEWAYS AND MEASUREMENT CELL RE-USE

• Main Authors: FIELDEN JOHN, POSLAVSKY LEONID, PETERS ROBERT, MADSEN JONATHAN MICHAEL, ADEL MICHAEL E
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 05.10.2015
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

계측이 반도체 디바이스 제작 동안에 a) 부분적으로 제작된 디바이스의 층 내에 형성된 제1 테스트 셀 상에서 제1 측정을 모델링하고; b) 상기 층 내의 제2 테스트 셀 상에서 제2 측정을 수행하고; c) 제2 측정으로부터의 정보를 제1 측정의 모델링으로 피드하고; 제1 테스트 셀 및 제2 테스트 셀을 포함하는 층 상에서 리소그라피 패턴이 형성된 이후 d) 상기 a) 및 b)으로부터의 정보를 각각 이용하여 제1 테스트 셀 및 제2 테스트 셀 상에서 제3 측정 및 제4 측정을 각각 모델링함으로써 구현될 수 있다. Metrology may be implemented during semiconductor device fabrication by a) modeling a first measurement on a first test cell formed in a layer of a partially fabricated device; b) performing a second measurement on a second test cell in the layer; c) feeding information from the second measurement into the modeling of the first measurement; and after a lithography pattern has been formed on the layer including the first and second test cells, d) modeling a third and a fourth measurement on the first and second test cells respectively using information from a) and b) respectively.