METAL DENSITY DISTRIBUTION FOR DOUBLE PATTERN LITHOGRAPHY

• Main Authors: SCHULTZ RICHARD, ROWHANI OMID, TUNG CHARLES
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 03.08.2015
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

방법, 컴퓨터 판독형 매체, 및 장치가 제공된다. 방법이 전체 패턴을 파워 레일 베이스 패턴을 포함하는 제 1 마스크 패턴과 제 2 마스크 패턴으로 분해하는 단계, 및 제 2 마스크 패턴 상에 제 1 마스크 패턴의 파워 레일 베이스 패턴과 적어도 부분적으로 정렬되는 파워 레일 인서트 패턴을 생성하는 단계를 포함하고 컴퓨터 판독형 매체가 이들 단계를 수행하도록 구성된다. 상기 장치는 방법에 의해 생성되는 포토리소그래피 마스크를 이용해 포토리소그래피에 의해 생성된다. Methods, a computer readable medium, and an apparatus are provided. A method includes and the computer readable medium is configured for decomposing an overall pattern into a first mask pattern that includes a power rail base pattern and into a second mask pattern, and generating on the second mask pattern a power rail insert pattern that is at least partially aligned with the power rail base pattern of the first mask pattern. The apparatus is produced by photolithography using photolithographic masks generated by the method.