IMPRINT APPARATUS, IMPRINT METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING AN ARTICLE

• Main Authors: IWAI TOSHIKI, SHINODA KEN ICHIRO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 16.07.2015
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention provides an imprint apparatus which includes a control unit to perform a detection process. The detection process includes a first process of enabling a detection optical system to detect a mold side mark when the location of a substrate stage is determined to locate a reference mark out of the view of the detection optical system and a second process of enabling the detection optical system to detect the reference mark when the location of the substrate stage is determined to locate the reference mark within the view of the detection optical system and the location of a mold state is determined to defocus a mold side mark with regard to the detection optical system. 본 발명은, 검출 처리를 행하도록 구성된 제어 유닛을 포함하는 임프린트 장치를 제공하며, 상기 검출 처리는, 기준 마크가 상기 검출 광학계의 시야 외에 위치되도록 기판 스테이지를 위치 결정한 상태에서 검출 광학계가 몰드측 마크를 검출하게 되는 제1 처리와, 상기 몰드측 마크가 상기 검출 광학계에 대하여 디포커스되도록 상기 몰드 스테이지를 위치 결정하고 상기 기준 마크가 상기 검출 광학계의 시야 내에 위치되도록 상기 기판 스테이지를 위치 결정한 상태에서 상기 검출 광학계가 상기 기준 마크를 검출하게 되는 제2 처리를 포함한다.