METHANOFULLERENES

본 발명은 신규한 메타노풀러렌 유도체, 그것으로부터 제조된 네거티브-형 포토레지스트 조성물 및 그것의 사용방법에 관한 것이다. 유도체, 그것의 포토레지스트 조성물 및 방법은 예를 들면 자외선 방사선, 초극자외선 방사선, 극자외선 방사선, X-선 및 하전된 입자 광선을 사용하는 미세 패턴 처리에 대해 이상적이다. The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative-type photoresist compositions prepared therefr...

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Main Authors XUE XIANG, PALMER RICHARD EDWARD, ATHENS DREW, FROMMHOLD ANDREAS, MCCLELLAND ALEXANDRA, ROBINSON ALEX PHILIP GRAHAM, PREECE JON ANDREW, YANG DONGXU
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 15.07.2015
Subjects
ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
CHEMISTRY
ELECTRICITY
METALLURGY
ORGANIC CHEMISTRY
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Summary:본 발명은 신규한 메타노풀러렌 유도체, 그것으로부터 제조된 네거티브-형 포토레지스트 조성물 및 그것의 사용방법에 관한 것이다. 유도체, 그것의 포토레지스트 조성물 및 방법은 예를 들면 자외선 방사선, 초극자외선 방사선, 극자외선 방사선, X-선 및 하전된 입자 광선을 사용하는 미세 패턴 처리에 대해 이상적이다. The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative-type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays.
Bibliography:Application Number: KR20157015722