APPARATUS FIRING CERAMIC SUBSTRATE

Disclosed is a ceramic substrate firing apparatus. Provided is the ceramic substrate firing apparatus, which comprises: a firing furnace for supplying heat to a ceramic substrate by accommodating a plurality of ceramic substrates therein; a plurality of setters installed as spaced in a vertical dire...

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Main Authors KIM, YONG SUK, CHANG, BYEUNG GYU, LEE, TAEK JUNG
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 08.07.2015
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Summary:Disclosed is a ceramic substrate firing apparatus. Provided is the ceramic substrate firing apparatus, which comprises: a firing furnace for supplying heat to a ceramic substrate by accommodating a plurality of ceramic substrates therein; a plurality of setters installed as spaced in a vertical direction inside the firing furnace to support a lower surface of the ceramic substrate; a pillar for supporting the setters to maintain the interval between the setters; and a gas input unit formed in the firing furnace to supply a reducing gas to the firing furnace wherein a plurality of through-holes are formed on the pillar so that the reducing gas passes through. 세라믹기판 소성장치가 개시된다. 내부에 복수의 세라믹기판을 수용하여 상기 세라믹기판에 열을 공급하는 소성로; 상기 세라믹기판 하면을 지지하기 위하여 상기 소성로 내에 상하로 이격되게설치되는 복수의 세터; 복수의 세터 간의 간격이 유지되도록 상기 세터를 지지하는 지주; 및 상기 소성로에 환원가스를 공급하도록 상기 소성로에 형성되는 가스투입부를 포함하고, 상기 지주에는 상기 환원가스가 통과하도록 복수의 관통홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 세라믹기판 소성장치가 제공된다.
Bibliography:Application Number: KR20130169186