PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

• Main Authors: ISHIKAWA TATSURO, KUROKO MAYUMI, SHIOTA DAI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 03.07.2015
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The present invention is to provide a photosensitive resin composition which can form a pattern having excellent adhesion to a substrate and water resistance; a method for forming the pattern using the photosensitive resin composition; a black matrix formed by using the photosensitive resin composition including a light shielding agent among the photosensitive resin composition as a colorant; and a display device having the black matrix. A silane coupling agent (D) of a specific structure is mixed to the photosensitive resin composition including an alkali soluble resin (A), a photopolymerizable monomer (B), and a photopolymerization initiator (C). [과제] 기판에 대한 밀착성과 내수성이 우수한 패턴을 형성할 수 있는 감광성 수지 조성물과, 상기 감광성 수지 조성물을 이용하는 패턴 형성방법과, 상기 감광성 수지 조성물 중 착색제로서 차광제를 포함하는 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 블랙 매트릭스와, 상기 블랙 매트릭스를 구비하는 표시장치를 제공하는 것이다. [해결 수단] (A) 알킬리 가용성 수지, (B) 광중합성 모노머 및 (C) 광중합 개시제를 포함하는 감광성 수지 조성물에 특정 구조의 (D) 실란 커플링제를 배합한다.