ETCHING MATERIAL

붕소 및 그 붕소와 결합된 할로겐을 구조 중에 포함하는 루이스산, 상기 루이스산의 염, 및 상기 루이스산을 발생하는 화합물로부터 선택되는 적어도 1개의 붕소 화합물을 함유하는 에칭재.

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors INADA MAKI, KUMASHIRO YASUSHI, NOUDOU TAKAAKI, KURODA KYOKO, NAKAKO HIDEO
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 30.06.2015
Subjects
ADHESIVES
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CHEMISTRY
DYES
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC
GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS
MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE
METALLURGY
MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS
MISCELLANEOUS COMPOSITIONS
NATURAL RESINS
PAINTS
POLISHES
REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGYGENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
SEMICONDUCTOR DEVICES
TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINSTCLIMATE CHANGE
Online AccessGet full text

Cover

More Information
Summary:붕소 및 그 붕소와 결합된 할로겐을 구조 중에 포함하는 루이스산, 상기 루이스산의 염, 및 상기 루이스산을 발생하는 화합물로부터 선택되는 적어도 1개의 붕소 화합물을 함유하는 에칭재.
Bibliography:Application Number: KR20157007145