EVAPORATION APPARATUS AND METHOD OF FORMING A THIN FILM USING THE SAME

• Main Authors: KANG, TAE WOOK, LEE, WON BAEK, VALERIY PRUSHINSKIY, KIM, MIN SOO, LEE, YOU JONG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 13.05.2015
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Disclosed is an evaporation apparatus and a method of forming a thin film using an evaporation apparatus. The evaporation apparatus may comprise: a chuck, a source film, a heating member, and a mask. The chuck supports a substrate, and may be moved along a first direction which is parallel to a top surface of the substrate. The source film is placed higher than the chuck, and may be moved along a second direction which is parallel to the top surface of the substrate. The heating member is placed higher than the source film, and partially heats the source film. The mask is placed between the source film and the chuck and has a plurality of openings. 증착 장치 및 상기 증착 장치를 이용한 박막 형성 방법을 개시한다. 상기 증착 장치는 척, 소스 필름, 가열 부재 및 마스크를 포함할 수 있다. 상기 척은 기판을 지지하며, 상기 기판의 상면에 평행한 제1 방향을 따라 이동할 수 있다. 상기 소스 필름은 상기 척보다 상부에 배치되며, 상기 기판의 상면에 평행한 제2 방향을 따라 이동할 수 있다. 상기 가열 부재는 상기 소스 필름보다 상부에 위치하며, 상기 소스 필름을 부분적으로 가열한다. 상기 마스크는 상기 소스 필름과 상기 척 사이에 배치되며, 복수의 개구를 포함한다.