DETECTION OF CONTAMINATING SUBSTANCES IN AN EUV LITHOGRAPHY APPARATUS

본 발명은 인테리어(15)를 둘러싸는 하우징(1a)과, 상기 인테리어(15) 내에 배열되는 하나 이상의 반사 광학 요소(5, 6, 8, 9, 10, 14.1 내지 14.6)와, 상기 인테리어(15) 내의 잔류 가스 분위기를 생성하는 진공 생성 유닛(1b)과, 상기 잔류 가스 분위기에서 하나 이상의 오염 물질(17a)을 검출하는 잔류 가스 분석기(18a, 18b)를 포함하는 EUV 리소그래피 장치(1)에 관한 것이다. 상기 잔류 가스 분석기(18a)는 상기 오염 물질(17a)을 저장하는 저장 장치(21)를 구비한다. 또한 본 발명은...

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Main Authors EHM DIRK HEINRICH, KRAUS DIETER, SCHMIDT STEFAN WOLFGANG
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 26.05.2011
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CINEMATOGRAPHY
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:본 발명은 인테리어(15)를 둘러싸는 하우징(1a)과, 상기 인테리어(15) 내에 배열되는 하나 이상의 반사 광학 요소(5, 6, 8, 9, 10, 14.1 내지 14.6)와, 상기 인테리어(15) 내의 잔류 가스 분위기를 생성하는 진공 생성 유닛(1b)과, 상기 잔류 가스 분위기에서 하나 이상의 오염 물질(17a)을 검출하는 잔류 가스 분석기(18a, 18b)를 포함하는 EUV 리소그래피 장치(1)에 관한 것이다. 상기 잔류 가스 분석기(18a)는 상기 오염 물질(17a)을 저장하는 저장 장치(21)를 구비한다. 또한 본 발명은 하나 이상의 반사 광학 요소(5, 6, 8, 9, 10, 14.1 내지 14.6)가 배열되는 인테리어(15)를 갖는 하우징(1a)을 구비하는 EUV 리소그래피 장치(1)의 잔류 가스 분위기의 잔류 가스 분석에 의해 하나 이상의 오염 물질을 검출하는 방법에 관한 것이고, 상기 오염 물질(17a)은 상기 잔류 가스 분석을 수행하기 위해 저장 장치(21)에 저장된다.
Bibliography:Application Number: KR20117004618