method of manufacturing monitoring wafer of inspection equipment

• Main Authors: AHN, BYEONG SEOL, KIM, GYEONG HO, KIM, JU U, LEE, BYEONG AM
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 10.06.2004
• Edition: 7
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

PURPOSE: A method for manufacturing a monitoring substrate of measurement equipment is provided to be capable of forming a reference sample corresponding to a variety of thin films on one semiconductor substrate for reducing the cost of the reference sample. CONSTITUTION: The first and second region are defined on a substrate(100). The second region is larger than the first region. The second and first thin film are sequentially deposited on the substrate. The first thin film pattern(140a) is formed at the first region by carrying out an etching process on the first thin film using the first etching mask pattern having the same size as the first region. The second thin film pattern(120a) is formed at the second region by carrying out an etching process on the second thin film using the second etching mask pattern having the same size as the second region. 반도체 장치의 측정 설비에 적용되는 모니터링 기판이 개시되어 있다. 상기 모니터링 기판의 형성은 제1영역 및 제2영역을 포함하는 n개영역으로 구분되는 기판을 마련한 후 기판 상에 제1박막 및 제2박막을 포함하는 n개의 박막들을 적층한다. 제1영역과 동일한 크기를 갖는 제1식각 마스크 패턴을 적용하여 상기 제1박막을 식각함으로서 제1영역에 존재하는 제1박막 패턴을 형성한다. 이어서, 제1박막 패턴을 커버하고, 제2영역과 동일한 크기를 갖는 제2식각 마스크 패턴을 적용하여 제2박막을 식각함으로서 상기 기판의 제2영역에 존재하는 제2박막 패턴을 형성한다. 이러한 방법으로 형성된 모니터링 기판은 하나의 반도체 기판에 두께 및 서로 다른 종류의 박막들을 포함하고 있어 하나의 기판으로 다수의 반도체 공정에 대응할 수 있다.