Process for preparing nano-fabrication of inorganic thin films by microwave irradiation

• Main Authors: HWANG, YEONG GYU, JANG, JONG SAN, KIM, DAE SEONG, HWANG, JIN SU, PARK, SANG EON
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 11.12.2003
• Edition: 7
• Subjects: MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF; NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS,MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES ASDISCRETE UNITS; NANOTECHNOLOGY; PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING

PURPOSE: Provided is a method for producing an inorganic thin film composed of an inorganic crystal selectively absorbed and nano-assembled to an inorganic adhesive layer with a high bonding force. CONSTITUTION: The method for producing a nano-assembled inorganic thin film comprising a substrate(10,20), an adhesive layer(11,21b) for bonding the substrate to the inorganic film and an inorganic crystal film successively is characterized by comprising the steps of: coating a thin film of a metal oxide or a metal silicate having a dielectric property relatively higher than that of the inorganic film material on the top of the substrate to form the inorganic adhesive layer(11,21b); and dipping the substrate-inorganic adhesive layer composite obtained from the preceding step into a pre-solution or solution(13,23) of the inorganic crystal and irradiating with microwaves to form the nano-assembled inorganic crystal on the top of the inorganic adhesive layer. 본 발명은 마이크로파에 의한 무기소재 박막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판(Substrate), 기판과 무기막을 접착하는 접착층, 그리고 무기 결정막이 차례로 적층되어 있는 무기소재 박막을 제조하는데 있어, 상기한 접착층에는 사용되는 무기막 소재보다 상대적으로 유전도가 높은 나노크기의 금속산화물 또는 금속 실리케이트 산화물을 박막 코팅하여 무기접착층을 형성한 후에, 무기막을 형성하기 위한 무기결정 전구용액 또는 무기결정 용액에 담그어 마이크로파를 조사하므로써 상대적으로 유전도가 높은 무기접착층에 무기결정이 선택적으로 흡수되어 규칙적인 배향으로 그리고 강력한 결합력으로 나노조립되도록 하는 마이크로파에 의한 무기소재 박막의 제조방법에 관한 것이다. 수열방법을 비롯한 무기물을 이용한 종래 방법에 의하면 무기결정 박막의 나노조립이 용이하지 않고, 또 무기 결정이 막으로부터 쉽게 분리되는 단점이 있으나, 본 발명의 제조방법에 의하면 무기결정이 무기접착층과 강력한 결합력으로 나노조립되는 우수성이 있다.