Apparatus for measuring horizontality

• Main Authors: CHAE, SEUNG WON, KIM, HYEONG YONG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 02.08.2003
• Edition: 7
• Subjects: GYROSCOPIC INSTRUMENTS; MEASURING; MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; NAVIGATION; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY; PHYSICS; SURVEYING; TESTING

PURPOSE: A horizontal state measuring apparatus is provided to adjust a horizontal state of a plate supporting a semiconductor substrate by using a pair of bubble tube levels and first and second notch marks. CONSTITUTION: A horizontal state measuring apparatus(100) includes a body(102) having a rectangular plate shape. First and second bubble tube levels(104,106) are accommodated in the body(102) in perpendicular to each other. A first notch mark(108) is formed at an upper surface of the body(102) in order to measure a bubble position of the first bubble tube level(104). A second notch mark(110) is formed at one side of the body in order to measure a horizontal state and height of a handler used for resting a semiconductor substrate on a plate provided in a semiconductor processing device. First and second windows are formed on the upper surface of the body(102). 반도체 기판을 지지하는 플레이트 및 상기 반도체 기판을 이송하는 이송 장치의 수평을 측정하는 장치가 개시되어 있다. 상기 장치는 사각 플레이트 형상을 갖는 본체와 수직으로 배치되는 한 쌍의 기포관 수준기를 포함하고, 상기 본체의 상면 및 일측면에는 제1눈금 및 제2눈금이 형성되어 있다. 상기 장치를 반도체 기판이 놓여지는 플레이트의 상면에 위치시키고, 상기 기포관 수준기의 기포와 상기 제1눈금을 이용하여 플레이트의 수평 상태를 측정한다. 그리고, 상기 이송 장치를 플레이트 상에 위치시키고, 상기 제2눈금을 이용하여 상기 이송 장치의 수평 상태를 측정한다. 따라서, 항상 일정한 수평 교정 작업을 수행할 수 있으므로, 반도체 기판의 로딩 중에 발생될 수 있는 반도체 기판의 파손을 방지할 수 있다.